PDS1000操作快速指南
信息来源: 时间:2015-07-17 点击次数:
轰击前的准备
1.设置和调节轰击参数,调节可裂膜和微载体发射装置之间的距离。调节微载体发射装置中铜网位置直至合适。
2.检测氦气是否充足(要求超过所需的压力至少200psi以上)。
3.清洗/灭菌:
装置:可裂膜保持帽,微载体发射装置
耗材:支持膜/支持膜支持固定器
4.用50%灭过菌的甘油冲洗和重新悬浮微载体(如金粉)
5.在实验当天,用DNA包裹微载体,并把微载体上样至灭过菌的支持膜上。

基因枪操作
1.给其一插上电源
2.打开电源ON。
3.用70%酒精对轰击室进行灭菌。
4.把灭过菌的可裂膜安装到灭过菌的支持帽中。

5.把支持帽旋入气体加速管子端(在轰击室的最上方内部),并用转矩扳手使其旋紧。

6.在微载体发射装置中安装支持膜和铜网。

7.把微载体发射装置和组织放置在合适位置,关上门。
8.抽真空,保持真空度在合适的位置上(最小5英寸汞柱)。
9.轰击样品:按下Fire键直至所需压力下可裂膜破裂,氦气的压力降至零。

10.松开Fire键。
轰击后的操作
1.将中间的按钮按至释放位(Vent),直至轰击室中真空恢复正常值。
2.取出样品。
3.从微载体发射装置上取下支持膜和铜网。取下已经破裂的可裂膜

4.在所有的材料均操作完毕后,需要空打一枪,使管路中氦气释放出来。关闭氦气阀门,不需放置可裂膜,抽真空至最少5英寸汞柱高,Fire直至钢瓶上的压力表降至零,然后使轰击室内压力还原,关闭电源。



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